 HomeProdukterHalvleder elektroniske kjemiske materialerFluorholdig elektronisk spesiell gass med høy renhet5N SULFUR HEXAFLUORID SF6 ELEKTRONISK SPESIAL GAS

Kontakt leverandør

Mr. Edward Xu

Legg igjen en beskjed

Kontakt nå

Du kan like

5N SULFUR HEXAFLUORID SF6 ELEKTRONISK SPESIAL GAS Kontakt nå

Karbonylfluor CF2O for vannets etsekjemikalier middel Kontakt nå

Svovel tetrafluorid SF4 for plasma -etsing Kontakt nå

Svovel heksafluorid SF6 elektronisk spesiell gass med høy renhet Kontakt nå

Hydrogen med høy renhet H2 H2 High-renhet elektronisk spesiell gass Kontakt nå

Hexafluoroethane C2F6 Hight 5N for halvlederets etchantgass Kontakt nå

Tungsten heksafluorid WF6 høyt halvledermateriale Kontakt nå

Silisium Tetrafluoride SIF4 Kjemiske spesialitetsgasser Kontakt nå

 

5N SULFUR HEXAFLUORID SF6 ELEKTRONISK SPESIAL GAS

$500

≥100
Gram

Betalings type:

L/C,T/T,Paypal

Min. Rekkefølge:

100 Gram

Kontakt nå

produktbeskrivelse

Produktegenskaper
Forsyningsevne og tilleggsinformasjon
Emballasje og levering

< >

Overview

Produktegenskaper

Modell nr.: Sulphur Hexafluoride CAS: 2551-62-4

Forsyningsevne og tilleggsinformasjon

Betalings type: L/C,T/T,Paypal

Emballasje og levering

Selge enheter:: Gram

Svovel heksafluorid CAS: 2551-62-4 SF6 99.999% 5N

Produktbruk

Svovelheksafluorid er en fargeløs, luktfri, ikke -giftig, ikke -brennbar inert gass med en molekylvekt på 146,07, et smeltepunkt på -51 ° C, og et kokepunkt på -64 ° C. Den molekylære strukturen til svovelheksafluorid er anordnet i en oktaedron, bindingsavstanden er liten, og bindingsenergien er høy, så stabiliteten er høy. Elektronisk kvalitet svovelheksafluorid med høy renhet er en ideell etsemiddel. Svovelheksafluorid kan brukes til å etse overflaten av silisium og fjerne organiske eller uorganiske membraner på halvledermaterialer, og kan brukes til å fremstille optiske fibre.

Kvalitetsspesifikasjon

Items	Units	Index
（SF₆）Sulfur hexafluoride	Vol./%	≥99.999%
Oxygen+Argon（O₂+Ar）≤	Vol.ppm	≤2
Nitrogen（N₂）≤	Vol.ppm	≤2
Carbon tetrafluoride（CF₄）≤	Vol.ppm	≤1
Carbon monoxide（CO）≤	Vol.ppm	≤0.5
Carbon dioxide（CO₂）≤	Vol.ppm	≤0.5
Methane（CH₄）≤	Vol.ppm	≤0.5
Moisture（H₂O）≤	Vol.ppm	≤3
Acidity（以HF计）≤	μg	≤0.1
Hydrolytic fluoride（以HF计）≤	μg	≤0.8
Total impurity content≤	μg	≤10
Particle	μg	Supply and demand agreement

applikasjon

Elektronisk kvalitet Høyt rent svovelheksafluorid er et ideelt elektronisk etsemiddel, som er mye brukt innen mikroelektronikkteknologi, det brukes som et plasmaetsing og rengjøringsmiddel i fremstilling av store integrerte kretsløp som datamaskinbrikker og LCD. Svovelheksafluorid brukes som en fluorkilde for å produsere fluordopet glass i fremstillingen av optisk fiber. I tillegg kan svovelheksafluorid også brukes som isolerende gass, sporstoff og kjølemedium.

Emballasje 、 lagring

Svovelheksafluorid lagres i standard sømløse sylindere, vanligvis er sylindervolum 40L, typen sylinder er CGA590 QF-2, og sylindertrykket er 8,0MPa og 12,5MPa. Spesifikke emballasjespesifikasjoner kan tilpasses i henhold til brukerkrav. Svovelheksafluorid lagres i et skyggefullt og ventilert lagerrom vekk fra brann- og varmekilde, temperaturen på lagerrommet overstiger ikke 30 ℃. Det skal lagres separat med brennbar (brennbart) og oksidasjonsmiddel. Lagringsområdet skal være utstyrt med nødutstyr for nødsituasjon.

Produkt kategorier : Halvleder elektroniske kjemiske materialer > Fluorholdig elektronisk spesiell gass med høy renhet

Varme produkter

E-post til denne leverandøren

*Emne:
*Til:

Mr. Edward Xu
*e-post:
*Budskap:

Din melding må være mellom 20-8000 tegn